Vous êtes ici : Version françaisePlateformes

Photolithographie

Plateforme CERTeM R&D

 Application de la résine photosensible
  • Equipements d’enduction de résine manuelle et automatisée
  • Equipement de dépôt résine par spray
  • Lamineuse pour film sec photosensible
Exposition 
  • Equipement d'insolation et d'alignement double face par masque pour plaquettes 
  • Equipement de micro-usinage de polymères par photo ablation laser
Développement et retrait résine 
  • Développeurs aqueux et solvant
  • Développeur de résine par puddle
  • Equipement de retrait résine par plasma O2

Plateforme CERTeM +

  • Equipement de lithographie à faisceaux d'électrons (E-beam)