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SuSCrypp

Le projet SuSCrypp consiste à élaborer des surfaces de silicium nanostructurées pour la réalisation de micro-dispositifs à forte capacitance. Pour réaliser ces nanostructures, des masques en film mince de polymères sont élaborés pour effectuer des gravures localisées par plasma cryogénique. Ce procédé, dit STiGer, se déroule à -100°C et utilise l'oxygène comme gaz de protection, permettant ainsi d'obtenir une gravure de qualité des nanomotifs sur la surface de silicium.

Financeur
: Région Centre-Val de Loire

Porteur de projet




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