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Plateforme CERTeM R&D

La plateforme CERTeM R&D est une salle blanche (classe 100) de 400m2 composée d'équipements pour la fabrication de composants de l'échantillon à la plaquette de 8 pouces.

 


  • Hotte de gravure – Lay Concept

  • Hotte H3PO4- Lay Concept

  • Hotte solvant – Lay Concept

  • Hotte SiPoreux – Lay Concept

  • Scrubber post CMP - SSEC

  • Séchage super critique - Separex


 


Préparation de surface
  • Etuve HMDS - hexaméthyldisilazane (promoteur d’adhérence)
  • Etuve - évaporation de solvant et séchage
Application de la résine photosensible
  • Equipements d’enduction de résine manuelle et automatisée
  • Equipement de dépôt résine par spray : Coater spray (Alta spray) SUSS
  • Lamineuse pour film sec photosensible
Exposition
  • Aligneurs de masque – SUSS Microtec
  • Aligneurs de masque double face – EVG (avec option lithographie par nano-impression – UV-NIL (UltraViolet NanoImprint Lithography) )
  • Lithographie laser OPTEC
Développement et retrait résine
  • Développeurs aqueux et solvant - Optiwet
  • Equipement de retrait résine par plasma O2

 


  • Equipement de collage de plaquette semi-automatisé - EVG

  • Equipement de décollement de plaquette


  • Usineur ionique - IBE (Ion Beam Etching)

  • Equipements de gravure ionique réactive - RIE/ICP (Reactive Ion Etching/Inductively Coupled Plasma)

 


  • Ablateur laser pour dépôt de couches minces
  • Equipement de dépôt métallique par évaporation sous vide avec lift-off - PLASSYS
  • Equipements de dépôt métallique par pulvérisation cathodique – PVD sputtering (Physical Vapor Deposition) - de T° ambiante à 700°C - PLASSYS
  • Equipement de dépôt de diélectrique assisté par plasma - PECVD (Plasma Enhancend Chemical Vapor Deposition) – PLASMALAB 100 Oxford
  • Equipement de dépôt de diélectrique assisté par plasma LT-PECVD (Low Temperature PECVD) - AVIZA
  • Equipement de dépôt basse pression - LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) SiN et SiPoly dopé

 


  • Four SiC CentroTherm – Recuit HT SiC

  • Four RTA Rapid thermal Annealing

 


  • Mesure 4 pointes

  • Ellipsomètre spectroscopique – SEMILAB

  • Profilomètre mécanique – KLA Tencor

  • Spectromètre de masse

 


  • Microscope optique

  • Microscope 3D

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