Accès direct au contenu


Version française > Plateformes techniques

Photolithographie


 
Préparation de surface
  • Etuve HMDS - hexaméthyldisilazane (promoteur d’adhérence)
  • Etuve - évaporation de solvant et séchage
Application de la résine photosensible
  • Equipements d’enduction de résine manuelle et automatisée
  • Equipement de dépôt résine par spray : Coater spray (Alta spray) SUSS
  • Lamineuse pour film sec photosensible
Exposition 
  • Aligneurs de masque – SUSS Microtec
  • Aligneurs de masque double face – EVG (avec option lithographie par nano-impression – UV-NIL (UltraViolet NanoImprint Lithography) )
  • Lithographie laser OPTEC
Développement et retrait résine 
  • Développeurs aqueux et solvant - Optiwet
  • Equipement de retrait résine par plasma O2

 
 

  • Equipement de lithographie à faisceaux d'électrons (E-beam)

  • Facebook
  • twitter
  • google
  • imprimer
  • version PDF
  • Envoyer cette page

Retour au site institutionnel