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Version française > Plateformes techniques

Dépôt

 

  • Ablateur laser pour dépôt de couches minces
  • Equipement de dépôt métallique par évaporation sous vide avec lift-off - PLASSYS
  • Equipements de dépôt métallique par pulvérisation cathodique – PVD sputtering (Physical Vapor Deposition) - de T° ambiante à 700°C - PLASSYS
  • Equipement de dépôt de diélectrique assisté par plasma - PECVD (Plasma Enhancend Chemical Vapor Deposition) – PLASMALAB 100 Oxford
  • Equipement de dépôt de diélectrique assisté par plasma LT-PECVD (Low Temperature PECVD) - AVIZA
  • Equipement de dépôt basse pression - LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) SiN et SiPoly dopé

 
 
  • Equipement pour le dépôt de couches minces de polymère

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